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研發能量

RD

研發能量

名 稱:
真空滾鍍系統
特 色: 國內自製滾筒型濺鍍設備,採用滾筒式設計,適用於各種小型零件之真空鍍膜,傳統的批次式物理蒸鍍設備需要以人工進行工件的整理排列,而滾鍍系統是將待鍍物置於滾筒內,當滾筒滾動時同時進行濺鍍製程,利用滾筒內之撥料機構使待鍍物均勻滾動,進而達到均勻鍍膜的效果,有效降低人工成本,並應用於不易設計治具的微小零件上。如縫紉針、電阻、電容、螺絲扣件、鏈條及配件等。 採用冷卻型滾筒式設計,系統可長時間連續鍍膜。各種需控制色澤一致性之裝飾鍍膜、功能性薄膜及一般物理蒸鍍可作之鍍膜皆能進行。 設備技轉廠商:多特針業,馗鼎奈米
聯絡人: 聯絡人: 處理組 許恭銘 07-3513121ext3553
聯絡人: 精微成形系統組 陳品均 07-3513121ext3519
設備隸屬之中心: 試作中心
照 片:
真空滾鍍設備
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